( naffeju | 2009. 11. 13., p – 12:28 )

totális baromság. az intel hatalmas mikroarchitekturális fölényre tett szert mára, és ez még fokozódni fog 2010-ben is. a nehalemnek egyszeűen nem ellenfél a shanghai.

ha igazad volna, beleértve a sőtöt, a kettejük közti különbség minimális volna, 10-20 %-on belüli lenne. azonos geometrián (csíkszélesség) ennél nagyobb különbségek nincsenek az egyes cégek nagyteljesítményű félvezető eljárásainak jellemzői közt (órajel-feszültség görbe, fogyasztás-szivárgás).

persze az is baromság, hogy az amd-nél lévő gyártástechnológia ne volna elég jó. igaz, az intel itt is addig küzdött, míg fölényt nem harcolt ki azonos csíkszélességen is, de ettől még az IBM-AMD gyártástechnológiája versenyképes, és a jelek szerint 32 nanométeren még inkább az lesz. a probléma az, hogy az intel előbb vezeti be.

ezt csak azoknak írtam, akik esetleg hajlamosak lennének bevenni ezt a sületlenséget.

---------------
mpu.buzz.hu